Ксерографические свойства аморфного селена в общем случае зависят от метода приготовления, степени чистоты, характера подложки, на которую осаждаются селеновые слои, и в определенной мере от толщины осаждаемых слоев. Обычным методом приготовления слоев является испарение в вакууме. Этот метод позволяет получать селеновые слои, которые в основном аморфны, если температура подложки поддерживается ниже 90° С во время испарения. Выше этой температуры осажденные слои будут содержать относительно большую долю кристаллического вещества. В коммерческих ксерографических пластинах обычно селен осаждается на алюминиевые подложки толщиной 20-50 мк в зависимости от применения. Однако для специальных целей иногда используются латунные подложки,, и толщина тогда может быть увеличена до 100 мк. Большое темновое сопротивление аморфного селена определяет его возможность удерживать в течение долгого времени поверхностный заряд, а относительно хорошая светочувствительность позволяет разряжаться до необходимого уровня за короткие времена экспонирования. Обычно о разряде в темноте говорят как о «темновом спаде» и о разряде при освещении — как о «световом спаде». Характеристики темнового спада. Темновой спад ксерографических пластин из аморфного селена зависит от знака поверхностного заряда и от материалов и методов, использованных при напылении слоев. Обычная пластина имеет время полуспада около 6,5 мин для начального потенциала, равного 500 в. Для пластин, приготовленных в различных условиях, автор обнаруживал времена полуспада продолжительностью от 9 час до нескольких секунд. Эксперименты показали, что поверхность раздела между слоем селена и подложкой служит главным фактором, определяющим темновой спад пластин из аморфного селена. Объемные свойства играют значительную роль, но являются менее важными, чем свойства поверхности раздела. Техника очистки и обработки поверхности подложки до напыления в вакууме селенового слоя может иметь заметное влияние на скорость темнового спада. Например, если поверхность алюминиевой подложки окисляется, то скорость темнового спада положительного поверхностного заряда уменьшается. Характеры темнового спада положительного и отрицательного зарядов обычно существенно отличаются.
Читать дальше
Фотопроводящие материалы, используемые в ксерорентгенографии
В настоящее время аморфный селен является единственным фотопроводящим материалом, применяемым для изготовления промышленных ксерорентгенографических пластин. Он чувствителен к видимой и ультрафиолетовой областям спектра и к широкому диапазону длин волн рентгеновских и гамма-лучей. Аморфный селен используют также для регистрирования дифракции электронов в электронно-оптических инструментах. Сообщений об использовании в ксерорентгенографии других фотопроводящих материалов пока не было. В […]
Расположение коллагенсвых волокон
В связи с этим принято различать четыре части мозоли: периостальную (наружную) мозоль; эндостальную или костномозговую (внутреннюю) мозоль; интермедиарную мозоль, непосредственно соединяющую отломки компактной пластинки; параоссальную мозоль, называемую также мускулярной. Костеобразование начинается с того, что в участках соединительнотканной мозоли, наиболее удаленных от сосудистых петель, на фоне пролиферации клеток образуются очаги гомогенизации, сплавления коллагеновых волокон в сплошную […]
Специфическая резистентность организма
Необходимо отметить, что изменение аллергической реакции далеко не всегда идет параллельно кривой иммунитета. Это дает, в частности, основание некоторым авторам определять аллергию и иммунитет при туберкулезе как два не связанных между собой биологических феномена. Однако, по нашему мнению, клиника должна рассматривать эти явления в известном единстве, как две стороны, характеризующие колебания сопротивляемости организма. Как было […]